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电镀加工的新研究

作者:浙江银环电镀有限公司 来源: 发布于:2016-04-09 9:37:51

电镀加工的新研究

   电镀加工新讲解
 采用赫尔槽和方形槽电解试验,研究了三价铬硫酸盐溶液镀硬铬时乙酸、甘氨酸、柠檬酸钠、草酸钠、苹果酸等辅助配位剂对镀铬层外观、厚度和镀速的影响。结果表明,辅助配位剂有利于改善镀层质量扣得到光亮镀层,但平均镀速和镀层厚度明显减小。
 辅助配位剂的种类及添加量都会影响三价铬的电沉积过程。以O.4 mol/L甘氨酸作为辅助配位剂时,高电流密度区不漏镀,也不出现雾带,电流密度范围达到4.5~32.0A/din2,可得到整体光亮的合格镀层;以0.10 mol/L苹果酸作为辅助配位剂时,在电流密度为9 A/dm2的条件下持续电解20 min,可得到7.33 Bm厚的合格光亮镀层,镀速为21.96 wn/h。
电镀加工的新研究
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